現在的半導體行業因為產品要求，一般都是需要在無塵室中完成，這樣既能保證產品的質量，同時也能提高我們的效率，那么半導體無塵室如何加濕呢？下面中凈為大家帶來有效加濕方案。

現階段半導體無塵室對溫度濕度的操縱范疇通常為：溫度22+/-0.5℃，環境濕度45+/-3%RH。文中根據對目前凈化室溫濕度記錄自動控制系統的科學研究，引進控制器設計，以提升溫濕度記錄操縱的預期效果。對氣體單純性地加溫或致冷(未做到飽和)全過程，是含濕量不變的全過程，即相對濕度不變的全過程。飽和蒸汽通過風機盤管加溫，溫度上升而空氣濕度降低。

1、選用加濕器對半導體無塵室加濕：采用虹吸現象做霧化系統軟件基本原理，分離出來的壓縮空氣和液態在精制的不銹鋼板噴嘴處匯聚，完成二級做霧化得到較好的噴霧器實際效果，噴霧器顆粒物直徑為5-10um。噴霧器顆粒物在空氣中飄浮時，吸咐空氣中的煙塵，而且持續報團凝結，之后受品質擴大受作用力的作用下移，進而到達凈化室內空氣的實際效果，等同于給氣體裝了一層濾網。“霧王”蟹鉗型噴頭互撞構造完成三級汽化，比一般的二液體加濕器做霧化更細致；3.3萬-4萬HZ聲多次做霧化剪截水顆粒物,粒度在5-7.5μm,確保加濕地區路面及機器設備表層不浸濕、不冷凝水、不返潮。

2、選用針對凈化室的溫濕度記錄操縱，最首要的二塊是新風空調箱和干風機盤管。新風空調箱除開要確保外部空氣通過在其中的初、中合高效過濾網，把空氣中的煙塵顆粒物過慮掉外，還需要依據凈化室里邊的溫濕度記錄狀況調節排氣口的溫濕度記錄，以確保送進的新風系統在規范的溫濕度記錄范疇內。而干風機盤管是依據凈化室里邊安裝的溫濕度傳感器精確測量的值來調節干風機盤管涼水閥的開啟度，從而調整送風和排風混和后的溫濕度記錄，以確保達到半導體加工工藝的溫濕度記錄要求。

3、在半導體無塵室的溫濕度記錄處理方式中，為了更好地處理去濕問題，通常選用環境濕度優先選擇的方式，涼水閥關鍵用于去濕，與此同時也導致溫度的降低，隨后根據開水閥的再熱，使溫濕度記錄均能做到所需求的值。那樣的作法盡管可以考慮設計規定，但在非常多的情況下，冷水熱水閥使動能互相相抵，導致了新能源的消耗。

以上就是中凈為大家介紹的“半導體無塵室加濕方案”，希望能對您有所幫助。我們既可以通過加濕器來解決，同時也可以采用其它的加濕系統來完成。

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